Cílem přednášky je seznámit studenty se základními poznatky z oblasti základů vakuové fyziky a techniky, fyziky plazmatu a jejich aplikací pro generování plazmatu a jeho využití pro plazmové modifikace materiálů a depoziční techniky. Úvodem budou studenti seznámení s obecnými zákonitostmi získávání nízkých tlaků a základními principy a typy vývěv včetně jejich vhodných kombinací pro výzkumné aparatury, včetně měření celkových a parciálních tlaků a průtoků plynů s ohledem zejména na depoziční procesy. Výše uvedené poznatky budou spolu se znalostmi fyziky plazmatu využity při osvojování principů konstrukce plazmových depozičních systémů pro fyzikální metody depozice (PVD), chemické a zejména plazmochemické metody depozice (PACVD). PVD techniky budou zaměřeny zejména na magnetrony a RF zdroje plazmatu. Bude rozebrán vliv parametrů reaktorů na depozice a modifikace povrchů materiálů s ohledem na možnosti řízení struktury a přípravu nanomateriálů definovaných parametrů změnou těchto parametrů reaktoru a depozičního procesu. Studenti budou seznámeni s principy metod plazmové polymerace z uhlovodíků, plazmové oxidace povrchů kovů a pulsní laserové depozice.